تفاصيل الوثيقة

نوع الوثيقة : مقال في مجلة دورية 
عنوان الوثيقة :
Macroscale Transformation Optics Enabled by Photoelectrochemical Etching
Macroscale Transformation Optics Enabled by Photoelectrochemical Etching
 
الموضوع : physics 
لغة الوثيقة : الانجليزية 
المستخلص : Photoelectrochemical etching of silicon can be used to form lateral refractive index gradients for transformation optical devices. This technique allows the fabrication of macroscale devices with large refractive index gradients. Patterned porous layers can also be lifted from the substrate and transferred to other materials, creating more possibilities for novel devices 
ردمد : 0935-9648 
اسم الدورية : ADVANCED MATERIALS 
المجلد : 27 
العدد : 40 
سنة النشر : 1435 هـ
2015 م 
نوع المقالة : مقالة علمية 
تاريخ الاضافة على الموقع : Wednesday, August 16, 2017 

الباحثون

اسم الباحث (عربي)اسم الباحث (انجليزي)نوع الباحثالمرتبة العلميةالبريد الالكتروني
D.S BarthBarth, D.S باحث رئيسيدكتوراه 
C GladdenGladden, C باحث مشاركدكتوراه 
A SalandrinoSalandrino, A باحث مشاركدكتوراه 
K O'BrienO'Brien, K باحث مشاركدكتوراه 
ZL YeYe, Zl باحث مشاركدكتوراه 
M MrejenMrejen, M باحث  
Y WangWang, Y باحث مشاركدكتوراه 
X ZhangZhang, X باحث مشاركدكتوراهxiang@berkeley.edu

الملفات

اسم الملفالنوعالوصف
 42660.pdf pdf 

الرجوع إلى صفحة الأبحاث